ドライエッチャ処理室内の堆積物の in situ 分析
スポンサーリンク
概要
著者
-
山根 未有希
日立製作所, 機械研究所
-
川田 洋揮
日立製作所, 機械研究所
-
鈴木 慎一
日立製作所, デバイス開発センター
-
鈴木 慎一
日立製作所 デバイス開発センタ
-
川田 洋揮
日立製作所 機械研究所
-
山根 未有希
日立製作所 機械研究所
関連論文
- 有磁場マイクロ波エッチング装置内壁に入射するイオンのin situ分析
- Alエッチング装置内壁面の入射イオンのin situ分析
- Alエッチング装置内壁面の堆積膜のin situ分析
- 有磁場マイクロ波プラズマエッチング容器内壁面への入射イオンの分析
- ドライエッチャ処理室内の堆積物の in situ 分析
- Al(111)におけるCHF_3及びO_2の吸着・解離挙動
- 分子線エピタキシ薄膜の膜厚分布シミュレ-ション (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- サマリー・アブストラクト
- 分子線エピタキシ薄膜の膜厚分布シミュレーション
- 酸化させたインバー材の昇温脱離法によるガス放出特性