クロムフリー浴を用いたマグネシウム合金の定電位陽極酸化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-04-17
著者
関連論文
- ダイヤモンド結晶のTiO_2による光触媒反応応用加工
- 2724 ダイヤモンド単結晶半導体基板の紫外光照射研磨技術の研究(S33-3 材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向(3),S33 材料の超精密加工とマイクロ/ナノ加工の動向)
- 光電気化学エピタキシャル成長法の開発--水溶液を用いる低温エピタキシャル成長法の開発
- 層状水酸化ユーロピウムの合成とナノシートへの剥離
- 2L02 電気泳動現象を前処理として利用した切削工具 (WC-Co) 上への CVD ダイヤモンド薄膜の合成
- 固体電気化学反応を用いた金属微細構造の作製
- 犠牲陽極を金属源とした有機溶媒中での金属酸化物膜の直接電析
- 固体電解質を用いた局部選択型金属イオン注入
- 電気化学的手法による酸化物ガラスへの金属ドーピング
- クロムフリー浴を用いたマグネシウム合金のアノード酸化における浴温の効果
- クロムフリー浴を用いたマグネシウム合金の定電位陽極酸化
- アルカリ浴を用いたMg-Al合金の定電位陽極酸化
- クロムフリー浴におけるMg-Al合金の陽極酸化に及ぼす添加剤の効果
- 光電気化学的手法による機能材料の創製 (特集2 低環境負荷を目指す「ソフト溶液プロセス」)
- エピタキシャル成長のためのソフト溶液電気化学プロセス (1999年の化学(10))
- 電気化学的手法による機能性酸化物の合成
- 電解による複合酸化物薄膜の作製 (薄膜技術の現状と展開--これからの薄膜) -- (新しい電気・電子,磁気特性の発現を探る)
- 電解による複合酸化物薄膜の作製