ヒドロキシル基を親水基とする非イオン界面活性剤の性質
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概要
著者
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塘 久夫
花王株式会社東京研究所
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〓 久夫
花王株式会社スキンケア研究所
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篠田 耕三
Physical Chemistry 1 Chemical Center Lund University
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塘 久夫
花王株式会社 東京研究所
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篠田 耕三
Lund University, Chemical Center, Physical Chemistry, Sweden
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