X-Ray Emission Induced by 60 ke V High-Flux Copper Negative-Ion Implantation

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概要

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• Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics, Faculty of Science, University of Tokyoの論文
• 2001-02-01

著者

• Takeda Yoshihiko

  Nanomaterials Laboratory National Institute For Materials Science

• 雨倉 宏

  金材技研

• KISHIMOTO Naoki

  National Institute of Agrobiological Resources

• Lay Thi

  National Research Institute For Metals

• AMEKURA Hiroshi

  National Research Institute for Metals

• VOITSENYA Vladimir

  Institute of Plasma Physics, NSC KIPT

• TAKEDA Yoshihiko

  National Research Institute for Metals

• Kishimoto Naoki

  National Research Institute For Metals

• Voitsenya Vladimir

  Institute Of Plasma Physics Nsc Kipt

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