O_2 プラズマにおける O ラジカルの役割

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概要

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• PCVD, エッチングなどの薄膜の低温加エプロセスとして用いられている反応性ガスの弱電離プラズマにおいて, プラズマにより生成するラジカルがプラズマ構造の形成にどの程度影響を与えるかを定量的に検討した. Oラジカルを含むO<SUB>2</SUB>ガスに対してBoltzmann解析を適用することによりswarm parameterを求めOラジカルの影響を比較し, それを用いて局所電場平衡を仮定したself-consistentな連続体モデルによりプラズマの空間構造を計算した. その結果, ラジカル濃度が著しく高くない限り (1%以下), プラズマの空間構造に大きな違いは生じないことがわかった. これらの結果から, PCVD, エッチングなどのラジカルなどの二次生成ガスが重要な役割を果たす場合においても, 二次生成ガス濃度が小さければ, ソースガスのみを考慮した解析によってプラズマ構造の記述は可能で, 電離過程とは独立に生成ガスの挙動を扱うことが可能であることを示した.

• 社団法人 化学工学会の論文
• 2000-11-20

著者

• 松井 功

  (株)東芝 研究開発センター機械・システムラボラトリー

• 松井 功

  (株)東芝 研究開発センター先端機能材料ラボラトリー

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