超高速2GHzLSIを実現する ための0.1μmプロセス用絶 縁材料の開発に成功 -ナノメートルオーダーの空洞の形状 制御技術"Nanocavity"

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概要

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• 日本化学会の論文
• 2000-03-01

著者

• 松浦 東

  (株)富士通研究所

• 松浦 東

  (株)富士通研究所材料技術研究所

• 福山 俊一

  (株)富士通研究所材料技術研究所

• 成澤 俊明

  (株)富士通研究所材料技術研究所

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