高磁場NMRによる触媒表面の観察
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 高磁場NMRによる触媒表面の観察
- ^Al-MAS NMR(14.1T)によるシリカ固定化塩化アルミニウム触媒の表面構造解析
- 二元細孔Ni/SiO_2触媒の作製と物性評価
- マクロ孔を有するゼオライト成形体の作製
- 水ガラスからのマクロ孔を有する球状シリカ成形体の作製
- 相分離を利用したシリカゲル層を有するガスクロマトグラフ用キャピラリーカラムの作製
- 連続貫通マクロ孔を有する二元細孔シリカアルミナを用いた触媒反応
- 二元細孔シリカ及びシリカージルコニアの熱的特性(イノベーティブセラミックス(I))
- セリア上における1, 3-ジオールの選択的脱水反応とそのメカニズムの検討
- 水ガラスから作製した二元細孔シリカの調湿特性
- 相分離の過渡構造を凍結して作製した連続貫通マクロ孔を有するシリカロッド中のガス流動特性
- ジオールからの不飽和アルコールの選択的合成
- 水ガラスからの二元細孔シリカの作製とその結晶化
- 調製条件がジルコニア多孔体の細孔構造と結晶相に与える影響
- 高表面積を有するシリカで被覆した酸化物の作製
- 脂肪酸を用いて調製した多孔質Ni-MgO触媒によるケトンの液相水素化反応
- シリカコーティングによる高比表面積酸化物の調製
- 湿潤シリカゲル中における硝酸ニッケルの拡散係数に与えるケイ素量の影響
- 湿潤ゲル溶液置換法によるNi/SiO_2触媒の調製とNi粒子の分散性制御
- CeO_2-MgO触媒によるフェノールの選択的オルトメチル化反応
- 有機酸を用いた金属酸化物の調製
- ヒドロキシ酸を用いたシリカゲルの細孔構造制御
- 二元細孔シリカ
- エタノールのみを原料とする酢酸エチル製造方法 : 再生可能な化学原料の使用
- ジルコニア系超強酸固体触媒の開発
- ステアリン酸を用いた多孔質チタニア薄膜の調製
- 相分離を利用した水ガラスからの二元細孔シリカの作製
- N_2O酸化反応を利用したCu表面積の新しい測定法
- ゲル内液相中の溶質の拡散係数測定
- シリカ析出によるZrO_2の高表面積化
- CeO_2-MgO触媒上におけるアルコールの活性化