<先端材料解析研究部会・成果報告>イオンミリング技法とウルトラミクロトーム(超薄切片)技法のラウンドロビンテスト -工業材料における電顕観察用薄膜作製技術の標準化-
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概要
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- 日本電子顕微鏡学会の論文
- 1997-03-31
著者
-
朝倉 健太郎
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
-
朝倉 健太郎
東京大学大学院工学系研究科
-
朝倉 健太郎
東京大学大学院工学研究科
-
広畑 泰久
日本医科大学
-
堀内 繁雄
科学技術庁無機材質研究所
-
平坂 雅男
帝人(株)新事業開発グループ研究企画推進部 兼 構造解析研究所
-
朝倉 健太郎
東京大学マテリアル工学専攻
-
広畑 泰久
日本医科大学医学部
-
平坂 雅男
帝人(株)
-
堀内 繁雄
科学技術庁・無機材質研究所
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