マイクロ波プラズマCVD法による高温酸化クロム基板上でのダイヤモンド膜の合成
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概要
著者
-
三澤 俊平
室蘭工業大学
-
斎藤 英之
室蘭工業大学工学科材料物性工学科
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吉田 真人
室蘭工業大学 大学院
-
斎藤 英之
室蘭工業大学工学部材料物性工学科
-
酒井 彰
室蘭工業大学
-
八木 澄子
室蘭工業大学大学院
-
田中 壽晃
(財)室蘭テクノセンター
-
相馬 英明
(財)室蘭テクノセンター
-
田中 大之
北海道立工業試験場
-
酒井 彰
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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