アークイオンプレーティング法による窒化チタン薄膜の合成-磁場の効果-
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1995-09-20
著者
関連論文
- 液相析出法による3次元規則構造を有する多孔質酸化チタンの合成とその物性(半導体エレクトロニクス)
- セラミックスナノ積層多層薄膜の合成と機械特性
- パルスレーザー堆積法によるB-C-N系薄膜の合成
- 科学技術研究の新パラダイムを求めて
- イオンプレーティング法によるセラミックスTiN/CrN積層薄膜の合成と評価
- パルスレーザー堆積法によるB-C-N系薄膜の合成
- 電子サイクロトロン共鳴スパッタリング法による窒化炭素薄膜の合成
- イオンプレーティング法によるセラミックス薄膜に関する研究
- 金属・セラミックス材料表面改質技術最近の話題
- AlN基板のメタライジング
- アークイオンプレーティング法による窒化チタン薄膜の合成-磁場の効果-
- ECRスパッタ法によるA1N薄膜の合成
- 138 薄膜表面処理した炭素鋼の疲労強度の研究(表面処理)
- 1E10 真空アーク式イオンプレーテイング法によるセラミックス薄膜の結晶配向
- 2B44 イオンビームスパッタ法による TiO_2 薄膜の合成
- 2B42 イオンビームスパッタ法による AlN 薄膜の合成
- 電子サイクロトロン共鳴スパッタ法によるダイヤモンドライクカーボン薄膜の合成
- 2F03 SHS 反応熱を利用したダイヤモンド - 金属接合
- 1A19 SHS 反応熱を利用した AlN-Cu 接合
- サマリー・アブストラクト
- イオンビームスパッタ法によるAIN薄膜の合成
- イオンビームスパッタ法薄膜によるパッシベーション