ディジタルX線トポグラフィによるシリコンの微小ひずみ解析システムの開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1995-04-20
著者
-
劉 光佑
ソニー(株)中央研究所
-
川戸 清爾
ソニー 中研
-
工藤 喜弘
ソニー 中研
-
小島 繁
ソニー(株)中央研究所
-
川戸 清爾
ソニ-株式会社中央研究所材料物性研究部門主幹研究員
-
小島 繁
ソニ-株式会社中央研究所材料解析センタ-主任研究員
-
工藤 喜弘
ソニ-株式会社中央研究所材料解析センタ-
-
劉 光佑
ソニ-株式会社中央研究所材料解析センタ-
関連論文
- 6. イメージングプレート平面波X線トポグラフィによるSi単結晶の格子歪み解析
- IPトラバース露光法を利用した平面波X線トポグラフの強度分布補正
- イメージングプレートを利用した平面波X線トポグラフィによるシリコン単結晶の格子歪み解析
- ディジタルX線トポグラフィによるシリコンの微小ひずみ解析システムの開発