スポンサーリンク

Nec マイクロエレクトロニクス研究所 | 論文

• Low-k/Cu配線層にシリンダキャパシタを内包したロジックIP準拠・混載DRAMデバイス(配線・実装技術と関連材料技術)

• < 前のページ

スポンサーリンク