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高知工科大学 ナノデバイス研究所 | 論文
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体--スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て (電子ディスプレイ)
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製--大気圧下、低温成長への挑戦 (電子ディスプレイ)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 (電子ディスプレイ)
- 高真空レーザアブレーション法による炭素粒子を核としたカーボンナノチューブの作製と評価
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (情報ディスプレイ)
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 (情報ディスプレイ)
- 炭素系高機能材料技術の研究開発--フロンティアカーボンテクノロジー (特集 プロジェクト研究)
- ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(半導体エレクトロニクス)
- ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果
- 酸化亜鉛薄膜トランジスタ(ZnO TFT)のバイアスストレス劣化メカニズム (信頼性)
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- エレワザ×エレザイ(FILE 10)ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発
- ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 : スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 : 大気圧下、低温成長への挑戦
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成