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筑波大学数理物質科学研究科 | 論文
- シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析(シリコン関連材料の作製と評価)
- 酸素雰囲気アニール中のHfO_2/SiO_2/Si(001)界面反応の高分解能RBS観察(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 電子天秤を利用したアンペールの力の測定
- Pt単結晶上でのCO酸化反応における表面再構成の効果 : 活性錯合体構造と反応場の変化
- 赤外線化学発光測定によるPt(110) およびPt(111)単結晶上におけるCO酸化反応
- Fe-MFI触媒上のN_2O還元反応における還元剤の種類による影響と活性点の構造解析
- Pd単結晶上でのCO酸化反応における活性錯合体の構造 : CO被覆率の効果
- ロジウム/セリア/シリカ系触媒を用いたセルロースの接触ガス化 : コークの燃焼およびタールの改質
- Fe-BEA触媒によるN_2O選択還元反応 : FT-IRによる反応メカニズムの考察
- Rh/CeO_2/SiO_2を用いたバイオマスからの合成ガス製造 : 熱分解ガス化, 水蒸気改質および炭酸ガス改質
- 木質系バイオマスの低温接触ガス化による合成ガスの高効率製造
- バイオマスの低温接触ガス化による高効率合成ガス製造
- バイオマスの高効率ガス化触媒の開発
- SiO_2担持RhVO_4触媒によるCO水素化反応 : 析出炭素の検出・除去とRhVO_4の再生
- 担持 Rh 触媒表面での N_2O 分解反応 - 活性の酸素被覆率依存性と酸素の脱離メカニズム -
- 担持Rh触媒によるN_2O分解反応 - 酸素の脱離メカニズム -
- 地球温暖ガスN_2OおよびCH_4のFeイオン交換ゼオライト触媒による同時除去
- 分散度制御したZrO_2担持Rh触媒によるCH_4酸化反応およびCH_4のCO_2リホーミング反応
- Rh添加V_2O_5/SiO_2触媒によるC_3H_8の脱水素反応-CO_2共存効果およびRh添加効果
- 22aSC-1 格子QCDによる高温でのクォーク間ポテンシャルの研究(22aSC ハドロン物質,理論核物理領域)