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松下電器中研 | 論文
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- 酸化物反強磁性体α-Fe_2O_3を用いたデュアルスピンバルブのMR特性
- α-Fe_2O_3/Ni-Fe/Co/Cu/Co/Ni-Feスピンバルブ膜のMR特性
- [α-Fe_2O_3/Co/Cu/Co]系GMR膜のMR特性
- 鏡面反射によるGMR効果の増大
- パレス反応性スパッタリングによるFe/Fe-O人工格子膜作成と界面の熱安定性
- 2p-X-1 酸化物反射膜を用いたスピンバルブ膜のGMR特性
- MBE法により作製した〔Ni-Fe/Cu/Co〕膜のAgキャップ層によるMR比増加効果
- [NiCoFe/Cu/Co]スパッタ膜におけるCu/Ag反射膜によるGMR増大
- 界面反射膜によるMR比増大のシミュレーション
- CoMnBアモルファス合金を用いたスピンバルブ膜のMR特性
- CoMnB/Co(Fe)/Cu/Co(Fe)系人工格子膜のMR特性
- スピンバルブ膜を用いたメモリー素子
- GMRを用いた固体メモリー
- 金属人工格子膜の膜面垂直MR特性
- スピンバルブMR膜を用いたメモリー素子
- エピタキシャルSM/NM/HM(/NM)人工格子膜のMR特性SM=NiFe, NM=Cu, Cu/Ag/Cu, HM=Co, Co/CoPt
- Co_Fe_X/Cu/NiCoFe系スピンバルブ膜のMR特性
- 集束イオンビーム蒸着による [Co/Cu] 人工格子膜のMR特性