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東京理大 基礎工 | 論文
- UCバイオイメージングのためのY_2O_3:Er^微粒子の表面修飾
- V_2O_5 結晶と 70V_2O_5・30P_2O_5 結晶化ガラスの誘電特性
- V_2O_5-B_2O_3-P_2O_5 ガラスの異常に大きな誘電緩和スペクトル
- バナジウムホウリン酸塩ガラスの電気的性質
- ゾル・ゲル法による次世代メモリー用強誘電体エピタキシャル積層膜の作製 (特集 21世紀に開花するニューマテリアルとそのテクノロジーへの招待--東京理科大学における先端材料研究)
- ディップコーティング法によるエレクトロクロミックλ-MnO_2薄膜の作製と物性
- 2A09 ゾル・ゲル法によるアパタイト構造を有する Ln_x(SiO_4)_6O_(Ln : Nd, La) 系酸素イオン伝導体の作製と電気特性評価
- 1E06 ゾル・ゲル法により作製したビスマス層状構造強誘電体 Bi_2WO_6 エピタキシャル薄膜の電気特性
- 2I03 ゾル・ゲル法により作製したエピタキシャル SrRuO_3 薄膜の評価
- 1K18 フェムト秒レーザー光が誘起するリン酸カルシウムガラスの感光特性
- 1K15 TiO_2 単結晶のフェムト秒パルス光に対する非線形光学特性
- 2H01 ゾル・ゲル法により作製した有機-無機イオン伝導体の構造解析
- 2F02 Z-scan 法による酸化物ガラス中の 3 光子吸収の観測と評価
- 2A11 ゾル・ゲル法による SOFC 用カソード材薄膜の作製と評価
- 1D04 ゾル・ゲル法によるエピタキシャル Bi_2WO_6 薄膜の作製と評価
- ゾル-ゲル法によるエレクトロクロミック酸化タングステン薄膜の作製
- 2J23 ゾル-ゲル法による有機-無機ハイブリッド固体電解質の作製と電気特性 (II)
- 2J06 ゾル・ゲル法による強誘電体 Sr_Ba_Nb_2O_6(SBN30) エピタキシャル薄膜の作製
- 2J05 ゾル・ゲル法による Ba_2Ti_9O_ 系マイクロ波誘電体の作製及び物性評価
- 集束イオンビーム照射と化学エッチングを併用した3次元微細構造形成 : 微細構造形成の高能率化(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)