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東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻 | 論文
- Π共役系保護基を有するAuナノ粒子を用いた二重トンネル接合の抵抗値(材料デバイスサマーミーティング)
- ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減(材料デバイスサマーミーティング)
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- 走査トンネル顕微鏡を用いたポルフィリン分子の電気的特性の観察(材料デバイスサマーミーティング)
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- ポルフィリン自己組織化単分子膜によるペンタセンTFTの接触抵抗の低減(材料デバイスサマーミーティング)
- 垂直磁気異方性を有するFe-Zrスパッタ膜の作製 : 画像記録情報
- 誘電体クラッド半導体薄膜BH-DFBレーザ(量子効果デバイス(LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般)
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- 太陽電池開発の現状と将来展望
- 太陽光発電の現状と将来展望
- 最近の太陽電池技術の動向
- 高性能太陽電池の将来展望
- CT-1-3 バルクならびに薄膜シリコン太陽電池開発の新展開(CT-1. サスティナブル社会のための先端デバイス・材料とプロセス技術の現在と未来,チュートリアルセッション,ソサイエティ企画)
- シリコン太陽電池の将来ビジョン
- 非晶質と微結晶
- シリコン系次世代太陽電池
- 次世代への贈り物 -クリーンなエネルギー:太陽光を用いた発電システム-
- C-2-59 ダミーメタル入り伝送線路の伝搬定数の固有値解析(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)