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日本電気株式会社集積回路事業部 | 論文
補色単板カラーカメラ用CCDイメージセンサ
縦形オーバフロー構造インターラインCCDイメージセンサ
高周波スパッタ法によるTa2O5陽極化成膜上へのSiO2薄膜付着
タンタル薄膜
イオン後方散乱法 : シリコン素子製造技術との関連(Growth and Characterization of Silicon Crystals)
シリコン素子とイオン・ビーム後方散乱スペクトル
シリコンデバイスの電極配線
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