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日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所 | 論文
- C-3-9 波面整合法による石英系プレーナ光波回路の設計(導波路デバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-4 波面整合法によるAWGのモード変換損失低減(導波路解析・設計,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-45 波面整合法による導波路交差の狭角度化(導波路解析・設計(2),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-22 波面整合法によるY分岐型導波路の分岐比安定化(C-3. 光エレクトロニクス(光伝搬理論・解析), エレクトロニクス1)
- C-3-21 波面整合法による光回路合成 : 塗りつぶし設計の提案(C-3. 光エレクトロニクス(光伝搬理論・解析), エレクトロニクス1)
- C-3-50 波面整合法により設計した1.3/1.55μm波長スプリッタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
- C-4-30 超高ΔPLC を用いたハイブリッド集積型外部共振器レーザ
- 超高ΔPLCを用いたLDドライバIC内蔵MUレセ型一心双方向Gb/s光トランシーバ(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- 2インチInP基板上に作製したバットジョイント選択成長スポットサイズ変換レーザの均一性
- Butt-Joint型選択成長スポットサイズ変換付き1.3μmLD
- 有機ホウ素ポリマーを用いた二光子吸収型光メモリ装置
- 二光子吸収特性を利用した有機ホウ素化合物の導波路構造型多層光メモリへの応用(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 二段階吸収型ホログラフィック記録材料
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体II(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- B-10-39 分散モニタを集積した光デュオバイナリ伝送用10Gb/s適応型EDC-IC(B-10.光通信システムB(光通信),一般セッション)
- B-10-107 光位相制御サブキャリア合成による4×25Gbit/s光デュオバイナリ信号を用いた100Gbit/s全光OFDM伝送(B-10. 光通信システムB(光通信),一般セッション)
- B-10-66 パスプロビジョニングに適したトーン変調 CS-RZ 自動分散補償による 1.28Tbit/sWDM 現場実験
- B-10-115 デュオバイナリCS-RZ符号伝送におけるSSB直接検波による分散耐力の拡大
- B-10-96 モノリシックデジタルOEIC受信モジュールを用いた43Gbit/s, 200Km無中継伝送実験
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