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山大院理工 | 論文
- 13aXC-3 Ge_Mn_xTe の Mn 2p-3d XMCD(吸収分光・MCD・光電子分光, 領域 5)
- 112 Optical Coherence Straingraphyを用いた平織り繊維強化ゴム内に発生するマイクロ歪みの断層的可視化の検討(材料力学III)
- 非対称な人工ピンを導入したNb膜のビーンモデルを用いたJ_c分布の評価
- MO観察による非対称な人工ピンを導入した超伝導Nb膜の磁束ピンニング特性の評価
- 溝状人工ピンニングセンターを導入した超伝導Nb膜における磁束密度分布の観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜のMO観察
- 非対称な人工ピンニングセンターを導入した超伝導膜の特性検討(3) : ステップ状人工ピンの設計・試作
- アモルファス薄膜における磁壁ピンニング機構の解析
- マグネトロンスパッタ法によるMnドープCu_2O薄膜の作製
- ICB法により作製したGe_Mn_XTe薄膜の磁気特性
- 段差による磁性薄膜の磁壁ピンニング
- 強磁性半導体Ge_Mn_xTeの磁気抵抗効果
- 溝状段差による磁壁ピンニング特性の解析
- 膜厚変調による磁壁ピンニング特性の解析
- IV-VI族GeTeベース希薄磁性半導体の磁気特性
- Co添加ZnO薄膜の磁気特性
- アモルファス薄膜における磁壁ピンニングの解析 : 磁性体物理
- IV-VI族希薄磁性半導体Ge_Mn_xTeのキャリア誘起強磁性効果
- スパッタ法により作製したGe_Cr_xTe薄膜の磁気特性
- 希薄磁性半導体Ge_Mn_Te薄膜を用いた強磁性細線の作製