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奈良先端大:CREST | 論文
- 平面電極を用いた分散型無機ELパネルの基本特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- Ti電極上コバルトナノ粒子の位置選択性制御(シリコン関連材料の作製と評価)
- バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- リステリアDpsを利用したナノドット型フローティングゲートメモリの作製(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)