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名古屋産業科学研究所研究部 | 論文

• Co/Ni多層膜の垂直磁気異方性と時間分解磁化ダイナミクス
• 規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製(光記録技術・電子材料,一般)
• TbFe垂直磁化膜をメモリー層とした磁気トンネル接合の熱アシスト磁化反転(光記録,一般)

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