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北見工業大学電子工学科 | 論文

• XPS法による陽極酸化SiO_2/Si界面領域の組成解析
• シリコン陽極酸化における溶液中の水の効果
• 単元素半導体シリコン表面の酸化 (金属と半導体の表面不働態化)

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