スポンサーリンク
京都大学工学部電気電子工学科 | 論文
- B-5-9 アダプティブアレーアンテナとCDMA干渉キャンセラの統合方式に関する検討
- 抵抗変化型不揮発性メモリ用NiO薄膜における電気伝導特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- 抵抗変化型不揮発性メモリ用NiO薄膜中の欠陥準位の検出(シリコン関連材料の作製と評価)
- 抵抗変化型不揮発性メモリ用NiO薄膜における電気的特性の組成依存性(シリコン関連材料の作製と評価)
- 抵抗変化型不揮発性メモリ用NiO薄膜の構造および電気特性へのアニール効果(シリコン関連材料の作製と評価)
- ワイドバンドギャップ半導体(2) : SiC/ダイヤモンド(第13回結晶成長国際会議(ICCG-13/ICVGE-11))
- 電気電子工学科シンポジウム
- B-5-152 無線マルチキャストにおける受信端末の移動性を考慮した送信タイミング制御方式(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般講演)
- B-5-170 マルチセル無線マルチキャストにおけるAP割当て最適化の必要性(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般講演)
- B-12-21 光パケットネットワークのための適応的フロー制御プロトコルの過渡特性の評価(B-12. フォトニックネットワーク, 通信2)
- X線を照射したCe(III) ドープ酸化物ガラスの熱刺激ルミネッセンス(セラミックス)
- マクロコマンドによるソースプログラム生成方式の簡易形情報検索システム
- B-7-45 Swarming型P2Pにおけるコンテンツ配信の効率化(B-7.情報ネットワーク,一般講演)
- 京都大学工学研究科化学工学専攻界面制御工学研究室
- 自律分散無線ネットワークとセルラネットワークにおける送信電力の比較
- SB-3-2 マルチホップ自律分散無線ネットワークとセルラネットワークにおける総送信電力の比較
- A-3-13 配線とトランジスタのばらつきを考慮したバッファの挿入方法(A-3.VLSI設計技術,一般講演)
- 酸素活性種を用いた極薄SiO_2膜の低温形成およびMOSFETゲート絶縁膜への応用
- ED2000-49 / SDM2000-49 酸素活性種を用いた極薄SiO_2膜の低温形成およびMOSFETゲート絶縁膜への応用
- 酸素活性種を活用した低温形成極薄MOSFETゲートSiO_2