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九州工業大学機器分析センター | 論文
- Co/Siバルク拡散対における反応拡散
- 7a-S-7 シリコン中の不純物拡散の解析
- シリコンの酸化膜成長速度と格子間シリコン生成速度との関係
- 27a-N-7 シリコン中の格子間シリコンおよび空孔の拡散方程式の定常解
- Structure of Thermoelectric Material CoSb_3 Formed by Reactive Diffusion
- Reactive Diffusion between Ultra High Purity Iron and Silicon Wafer
- 金属とシリコンの反応拡散--純度に著しく依存するシリサイドの成長速度 (特集 金属拡散研究のすべて(上))
- 金属間化合物中の拡散に Darken/Mannig 式は適用できるか?
- Steady State Solutions of Diffusion Equations of Self-Interstitials and Vacancies in Silicon