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キヤノンアネルバ | 論文

• 半導体製造ラインにおける磁気トンネル接合の成膜と微細加工プロセス
• 真空一貫原子制御PVDプロセスによるTiO_2/HfSiO/SiO_2積層構造 High-k 絶縁膜の作製と電気特性評価
• 極薄SiGeバッファ層を用いたSi(100)基板上へのGeヘテロエピタキシャル成長
• スピトルクダイオードと負性抵抗効果
• CoFeB/MgO/CoFeB磁気トンネル接合におけるアモルファスCoFeBの結晶化過程

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