安田 心一 | 株式会社東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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概要
株式会社東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー | 論文
- 統計的解析によるPoly-Si TFTの結晶粒界の影響の評価(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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- ばらつき・信頼性シミュレーション技術の最新動向 : ISPAD2010併設ワークショップ1のレビュー(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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- Si基板上への(001)配向MgO薄膜の作製