KAMATA Junzo | Shibuya Seiki Co., Ltd.

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概要

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論文 | ランダム

• ArFエキシマレーザー露光用ネガ型レジストの開発
• ギガビットDRAM対応フォトレジスト材料の研究動向
• 高ドライエッチング耐性を有するArF化学増幅型レジストの開発
• アルキルスルホニウム塩とメタクリル系三元共重合体からなるArFエキシマレーザ露光用化学増幅型レジストの特性
• ロクロニウムの薬理学的特徴

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