Bonfiglietti A. | IFN-CNR, Via Cineto Romano 42, 00156 Roma, Italy

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概要

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関連著者

• Rapisarda M.

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• Mariucci L.

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• Fortunato G.

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• Bonfiglietti A.

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• Valletta A.

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著作論文

• Effects of Fabrication Parameters on the Electrical Stability of Gate Overlapped Lightly Doped Drain Polysilicon Thin-Film Transistors

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