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平井 悠久 | 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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関連著者
喜多 浩之
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
平井 悠久
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
喜多 浩之
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻:JSTさきがけ
著作論文
FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析(SiC-MOSゲートスタック技術の進展,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
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