多田 直文 | 山口大学工学部
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概要
関連著者
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多田 直文
山口大学工学部
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大崎 堅
山口大学工学部
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原田 直幸
山口大学工学部
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多田 直文
電気電子工学科
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多田 直文
山口大工
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渡辺 和雄
東北大学金研・強磁場センター
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渡辺 和雄
東北大学金属材料研究所
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市子原 英樹
山口大学工学部
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関 裕也
山口大学工学部
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関 裕也
山口大工
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松尾 芳一
山口大学工学部
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酒井 修二
日立電線
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酒井 修二
日立電線(株)システムマテリアル研究所
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岩城 源三
日立電線
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亀山 智弘
山口大学工学部
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岩城 源三
日立電線株式会社
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山田 博
山口大学工学部
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福田 祐二
山口大学工学部
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福田 祐二
山口大学 工学部
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原田 直之
山口大学工学部
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平 広明
山口大工
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平 広明
山口大学工学部
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多田 直文
山口大
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頼信 正法
山口大学工学部
著作論文
- 粉末冶金法によるNb_3Al超電導テープ線材の超電導特性(III)
- σ相とNbとの反応によるNb_3Alテープの作製と超電導特性
- 粉末冶金法によるNb_3Al超電導テープ線材の超電導特性(II)
- Bi系2223相酸物超伝導体の作製条件と臨界電流密度支配因子
- 通電加熱法によるNb_3Alテープ線材の超電導特性II
- 通電加熱法によるNb_3Alテープ線材の超電導特性
- プラズマ溶射法により作製したBi_2Sr_2CaCu_2O_x膜の評価 : J_cの膜厚依存性
- プラズマ溶射法により作製したBi_2Sr_2CaCu_2O_x膜の評価
- 山口大学工学部電気電子工学科 超伝導研究グループ:研究/事業グループ紹介
- プラズマ溶射法により作製したBi2212超伝導膜の熱処理工程依存性 II
- プラズマ溶射法により作製したBi2212超伝導膜の熱処理工程依存性
- プラズマ溶射法により作製したBi2Sr2CaCu2Ox膜の評価IV
- パルス磁場着磁法によるY系酸化物超伝導バルクの電磁気的特性
- プラズマ溶射法により作製したBi_2Sr_2CaCu_2O_x膜の評価III