戸川 晃 | 大阪瓦斯株式会社技術開発室
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概要
論文 | ランダム
- 321 対向2極型PVD法による多層薄膜の作製とその力学的特性評価および微細構造解析(薄膜の創成と特性評価-II)(一般セッション)
- 303 粉末ターゲットを用いたスパッタリング法で生成したGaN膜の残留応力評価(機能性材料の残留応力評価)(残留応力の評価と適用)(オーガナイスドセツション2)
- 232 放射光を用いた TiAlN と TiN の単層, 2 層および積層膜の残留応力測定
- プレゼンテーションの実施によるアウトカムズ評価の新しい試み
- (63)卒業研究のプレゼンテーション評価(第17セッション 教育評価・自己点検・評価システム(II))