Shimamoto Hiromi | Musashino Office, Hitachi Device Engineering Co., Ltd.

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概要

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Musashino Office, Hitachi Device Engineering Co., Ltd. | 論文

• HCI-Free Selective Epitaxial SiGe Growth by LPCVD for 80-GHz BiCMOS Production
• Suppression of B Outdiffusion by C Incorporation in Ultra-High-Speed SiGeC HBTs

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