朽津 耕三 | 東大・理
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概要
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朽津 耕三
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電通大材料科学
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国立公害研
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東京大学理学部化学教室
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永田 敬
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近藤 保
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中川 徹
富士通(株)国際情報社会科学研究所
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中川 徹
大阪学院大学情報科学部設置準備室
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中川 徹
富士通研究所
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中川 徹
東京大学理学部
著作論文
- 11a-D-8 固体表面からの二次電子放出による準安定原子の絶対測定
- 3a-F-7 CH_2D_2の振動回転スペクトルの解析
- 3a GS-4 HCNの電子衝撃による励起水素電子の生成
- 6a-T-6 HCN、DCNの電子衝撃により解離生成したCN(B^2Σ)の振動および回転分布
- 5a-S-11 アセトニトリルの電子衝撃による励起水素原子生成における同位体効果
- 3a GS-6 真空紫外光によるシアン化水素の光解離
- 7a-X-2 気体分子による低速電子線の散乱IV : HCl,CH_4分子による散乱断面積の測定と考察
- 4a-P-1 気体分子による低速電子の散乱 V : CL_4による散乱断面積のエネルギー依存性
- 4p-NU-1 高励起リュードベリ原子とクラスター分子との衝突によるイオン化過程
- 2p-B-9 電子衝撃による窒素分子からの高励起リードベルグ原子の生成
- 5p-A-4 準安定アルゴン原子(^3P_)とシアン化合物との衝突によって生成するCN(B^2 Σ)の振動分布と生成機構
- 7p-K-11 気体分子による低速電子線の散乱II.装置の製作
- 31d-BG-3 ファンデルワールス分子クラスターの動的過程I. リュードベリ原子衝突を用いる負イオン生成(31p BG 表面・界面)
- 30a-CD-13 ファンデルワールスクラスターの動的過程 III. : 電子親和力と負イオン生成に対するサイズの効果(原子・分子,第41回年会)