Okuno Masaki | ULSI Research div., Fujitsu Laboratories Ltd.

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概要

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• ULSI Research div., Fujitsu Laboratories Ltd.の論文著者

ULSI Research div., Fujitsu Laboratories Ltd. | 論文

• オゾン酸化による薄い酸化膜の形成〔英文〕 (電子材料技術の新展開)
• Impact of Nitrogen Profile in Gate Oxynitride on Complementary Metal Oxide Semiconductor Characteristics
• Impact of Nitrogen Profile in Gate Oxynitride on CMOS Characteristics

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