IWASAWA M. | Center for Computational Science, Research Center, Sony Corporation

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Center for Computational Science, Research Center, Sony Corporation | 論文

• Formatin of SiOF Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using (C_2H_5O)_3SiF
• Formation of SiOF Films by PECVD Using (C_2H_5O)_3SiF

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