MUROYAMA Masakazu | Process Division, Semiconductor Company, Sony Corporation

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概要

• 同名の論文著者
• Process Division, Semiconductor Company, Sony Corporationの論文著者

Process Division, Semiconductor Company, Sony Corporation | 論文

• Formation of SiN Films by Plazma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using [(CH_3)_2N]_3SiN_3
• Formation of SiOF Films by PECVD Using (C_2H_5O)_3SiF

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