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斎藤 正三郎 | 東北大学工学部 分子化学工学科
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東北大学工学部 分子化学工学科 | 論文
Embedded-atom分子動力学法による金属クラスター・表面の動力学
個体触媒反応におけるコンピュータ化学
シリコン表面酸化反応におけるSiO分子の生成および脱離過程に関する量子化学的検討
仮想現実感を統合した新しい分子動力学計算ソフトウェアの開発と、結晶成長過程のダイナミクス研究への応用
希ガス原子照射下でのAlリフロー挙動の分子動力学法による検討
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