Terada Shohei | Materials Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 7-1-1 Omika-cho, Hitachi, Ibaraki 319-1292, Japan

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概要

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• Materials Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 7-1-1 Omika-cho, Hitachi, Ibaraki 319-1292, Japanの論文著者

関連著者

• Hashikawa Naoto

  Renesas Electronics Corp. Tokyo Jpn

• Asayama Kyoichiro

  Renesas Electronics Corp. Tokyo Jpn

• Terada Shohei

  Materials Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 7-1-1 Omika-cho, Hitachi, Ibaraki 319-1292, Japan

• Hirano Tatsumi

  Materials Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 7-1-1 Omika-cho, Hitachi, Ibaraki 319-1292, Japan

著作論文

• Phase State Analysis of Nickel Silicides in Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Device Using Plasmon Energy Map

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