間中 孝彰 | 東京工業大学大学院電子物理工学専攻
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概要
東京工業大学大学院電子物理工学専攻 | 論文
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製(光記録,磁気記録)
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製
- 高異方性磁界を有するRu/FeCoB膜の方向性結晶配列と異方的残留応力
- RE-TM膜を用いた垂直MTJ中のFeCoスピン偏極層の結晶配向と磁化特性の評価(固体メモリおよび一般)
- 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製(固体メモリおよび一般)