高橋 幸大 | 金沢大学工学部/自然科学研究科

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金沢大学工学部/自然科学研究科 | 論文

• 反応性スパッタ法を用いたゲート絶縁膜用ZrO_2系薄膜の金属モード成長
• 反応性スパッタ法を用いたゲート絶縁膜用ZrO_2系薄膜の金属モード成長
• イオンビームスパッタ法によりSiGe成長における水素導入効果

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