久保 衆伍 | NTT境界領域研究所

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概要

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• 久保 衆伍

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• 久保 衆伍

  Ntt基礎研究所

• 久保 衆伍

  NTT境界領域研

• 鈴木 実

  Ntt境界研

• 鈴木 実

  NTT基礎研

• 青峰 隆文

  九大理

• 深見 武

  九大理

• 鈴木 実

  Ntt基礎研究所

• 浅野 秀文

  NTT境界領域研究所

• 市川 聡夫

  九大理

• 西嵜 照和

  九大理

• 浅野 秀文

  Ntt境界領域研

• 山崎 有司

  九大理

• 青峰 隆文

  Department Of Physics Kyushu University

• 田中 良二

  九大理

• 西嵜 照和

  東北大金研

• 鈴木 実

  京大院工

• 田辺 圭一

  超電導工学研究所

• フェレシテ ホセイニテヘラニ

  NTT境界領域研究所

• 田辺 圭一

  NTT境界領域研究所

• 久保 衆伍

  NTT研究所

• 榎本 陽一

  Ntt電応研

• 日高 義和

  Ntt境界領域研

• 日高 義和

  Ntt境界研

• 鈴木 実

  NTT研究所

• 鈴木 実

  NTT 境界線領域研究所

• 鈴木 実

  NTT光エレ研

• 内山 哲治

  九大理

• 深見 武

  Department Of Materials Science And Engineering Faculty Of Engineering Himeji Institute Of Technolog

• 永井 靖浩

  NTTサイバースペース研究所

• 永井 靖浩

  NTT境界領域研究所

• 佐藤 誠

  NTTフィールドシステム研究開発センタ

• 小中 庸夫

  NTTフィールドシステム研究開発センタ

• 榎本 陽一

  NTT境界領域研究所

• 山路 昭彦

  NTT境界領域研究所

• 日高 義和

  NTT境界領域研究所

• 日高 義和

  NTT光エレクトロニクス研

• 日高 義和

  日本電信電話公社茨城通研

• 山崎 有司

  久留米高専

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著作論文

• YBCO薄膜及び段差接合におけるフォトドープ効果
• 1p-PS-17 高温超伝導体エピタキシャル薄膜の抵抗転移
• 3a-PS-38 Nd_Ce_xCUO_4の正常状態における磁気抵抗
• 12p-PSB-32 Nd_Ce_xCuO_4薄膜における臨界電流の異方性と磁束ピン止め特性II
• 30p-PSB-68 Nd_Ce_xCuO_4薄膜における臨界電流の異方性と磁束ピン止め特性
• 30p-PSB-67 Nd_Ce_xCuO_4薄膜における磁束の励起エネルギーの異方性
• 酸化物超伝導薄膜高周波平面伝送線路の特性
• 28p-APS-81 ホール効果からみたNd_Ce_xCuO_に対する還元処理の効果
• 28p-APS-80 Nd_Ce_xCuO_4薄膜におけるホール係数の組成依存性
• Ba1-xKxBiO3薄膜を用いた接合
• 3a-YJ-9 Nd_Ce_xCuO_4薄膜の低温における磁気抵抗(3aYJ 低温(高温超伝導・混合状態(ジョセフソンプラズマ,ホール効果,ゆらぎ等)),低温)

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