東 正樹 | 東京工業大学 応用セラミックス研究所
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概要
関連著者
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東 正樹
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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岡 研吾
東京工業大学応用セラミック研究所
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岡 研吾
東京工業大学応用セラミックス研究所
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島川 祐一
京都大学化学研究所
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中村 嘉孝
京都大学化学研究所
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久保田 純
キヤノン(株)総合r&d本部
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松田 雅昌
原子力機構
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森 茂生
大阪府立大学大学院工学研究科
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東 正樹
京大化研
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島川 祐一
京大化研
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岡 研吾
京大化研
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東 正樹
京都大学化学研究所
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島川 祐一
京都大学 化学研究所
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久保田 純
キヤノン(株)
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松田 雅昌
Oak Ridge National Laboratory
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薮田 久人
キヤノン(株)総合r&d本部
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三浦 薫
キヤノン(株)総合r&d本部
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久保田 純
キヤノン(株)総合R&D本部
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薮田 久人
キヤノン(株)総合R&D本部
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三浦 薫
キヤノン(株)総合R&D本部
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東 正樹
東京工業大学応用セラミックス研究所
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森 茂生
大阪府立大学大学院工学研究科マテリアル工学科
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森 茂生
大阪府立大21機構N2RC
著作論文
- ハニカム格子反強磁性体が示すフラストレーション(最近の研究から)
- 機能性遷移金属酸化物の高圧合成
- 新しい負の熱膨張セラミックス
- Sm置換BiFeO_3の相転移挙動
- Sm置換BiFeO3の相転移挙動
- ペロブスカイトBiNiO?におけるサイト間電荷移動と巨大負の熱膨張
- BiCo1-xFexO3の分極回転現象