小橋 忠雄 | 足利工業大学電気電子工学科
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概要
関連著者
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小橋 忠雄
足利工業大学電気電子工学科
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伊東 一臣
足利工業大学
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高柳 健治
足利工業大学電気電子工学科
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小橋 忠雄
足利工業大学
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高柳 健治
足利工業大学工学部電気電子工学科
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山口 圭一
足利工業大学工学研究科電気電子工学専攻
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小川 雅嗣
足利工業大学
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松井 雅広
足利工業大学
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海野 倫宏
足利工業大学
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長安 巌之佐
足利工業大学
著作論文
- C-6-15 傾斜をつけたGaAs基盤に成長したZnSe薄膜の特性
- 窒素不純物としてアンモニアをドープしたZnSe薄膜の特性
- 温度勾配によるバッファ層を介したZnSE薄膜成長の検討
- セレン化亜鉛のバルク結晶成長法の検討
- ZnSe薄膜への塩素による不純物添加
- MOCVD法により成長したZnSe薄膜の検討
- 電気浸透による液体集束を利用した透過光制御
- 電気浸透マイクロレンズの基礎検討
- 画像処理におけるデ-タフォ-マット変換に関する研究
- 塩素不純物を添加したZnSe薄膜の特性
- 電気浸透マイクロレンズによる透過光制御
- 光CVD法により成長したZnSe薄膜の特性
- 光学的表面粗さ測定用粗さ標準用標本
- ZnSeダイオ-ドの青色発光の検討
- 光ファイバを用いたスペックルパタ-ンによる表面粗さ評価法に関する研究
- 放電路にアルミナ管を使用した導波路形CO2レ-ザについて-4-
- 光CVDによるZnSe薄膜成長
- 熱溶解転写記録方式の検討
- Y1Ba2Cu3OyのHIP焼結
- 電気浸透を利用した透過光制御
- 光ファイバ-を使用した表面粗さの測定