村山 洋一 | 東洋大学工学部・電気電子工学科
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概要
関連著者
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村山 洋一
東洋大学工学部・電気電子工学科
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村山 洋一
東洋大学工学部電気工学教室
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東洋大学工学部電気工学教室
著作論文
- 機能性透明導電膜
- 薄膜技術の最先端(最先端薄膜技術)
- イオンプレーティング技術の開発
- プラズマによる薄膜新素材
- 低温プラズマ利用の先端技術
- ドライプロセスによるメタロセン薄膜の作製 (薄膜の形成と構造) -- (有機薄膜)
- プラズマ重合による有機薄膜 (身近になったCVD技術)
- 形状記憶合金薄膜(あすの工業材料)
- イオンプレ-ティングによる薄膜形成過程におよぼすイオン効果 (イオンプレ-ティング)
- ポリマ-フィルムに対する金属蒸着技術の進歩
- プラズマを利用した表面処理技術
- イオンプレ-ティング
- 反応性RFイオンプレ-ティング法によるIn2O3膜
- 特殊蒸着膜 : 薄膜
- 半導体蒸着膜の光起電力効果(I) : 表面物理, 薄膜
- イオンプレーティング(期待されるブレイクスルー)
- 低温プラズマ利用の先端技術 (ドライプロセスによる機能材料の創製)
- プラズマを利用した機能性材料の合成 (プラズマ応用)
- プラズマによる材料合成の特徴 (プラズマ反応による機能性新材料の開発)
- 先端技術としての薄膜--機械技術者のために
- プラズマ重合による高分子と金属の複合膜
- イオンプレ-ティング:プラズマ法 (イオンを用いる薄膜作製技術(技術ノ-ト))
- 最近のプラズマ技術 (プラズマ化学の新しい可能性を探る)
- 光学プラスチック材料における表面処理
- PbO真空蒸着膜
- 低温プラズマ利用の先端技術 (ドライプロセスによる機能材料の創製)