鈴木 義彦 | 大阪府立工業技術研究所

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概要

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• 鈴木 義彦

  大阪府立工業技術研究所

• 小川 倉一

  大阪府立工業技術研究所

• 四谷 任

  大阪府立工業技術研究所

• 鈴木 義彦

  大阪府立産業技術総合研究所

• 滝口 勝美

  大阪府立工業技術研究所

• 四谷 任

  阪府大ナノ研

• 松田 浩身

  大阪府立工業奨励館

• 山本 純也

  大阪大学低温センター吹田分室

• 山本 純也

  大阪大学低温センター

• 松下 俊介

  摂南大学工学部電気工学科

• 野川 修一

  日新電機

• 野川 修一

  日新電機(株)

• 野川 修一

  日新電機株式会社

• 岩田 章

  川崎重工業

• 松下 俊介

  摂南大学工学部電気電子工学科

• 嵩 良徳

  川崎重工業(株)

• 永久保 雅夫

  (株) 大阪真空機器製作所

• 高野 真一

  日新電機株式会社

• 岡本 康治

  日新電機株式会社

• 東海 正國

  川崎重工業

• 吉竹 正明

  大阪府立工業技術研究所

• 玉置 省三

  大阪府立工業技術研究所

• 石部 二郎

  大阪電気通信大学

• 松田 浩身

  大阪府立工業技術研究所

• 松下 俊介

  摂南大学工学部

• 嵩 良徳

  川崎重工業株式会社技術研究所

• 岩田 章

  川崎重工業株式会社技術研究所

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著作論文

• IBS法によるTbFeCo薄膜の作製
• IBS法によるZnO薄膜の作製
• イオンビームスパッタ法によるa-Si : H膜の高速成長化 : 水素添加機構についての検討
• MIS型太陽電池の諸特性
• 低温におけるNb1-xNx薄膜の電気的特性 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
• Zr-Nを用いた低温用温度計 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
• 低エネルギ-イオンを利用したDIBS法によるa-Si:H薄膜の作製(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

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