HONGO Akihito | Optoelectronic System Laboratory, Hitachi Cable, Ltd.

スポンサーリンク

概要

関連著者

もっと見る

著作論文

Fabrication and Characterization of Non-Doped SiO2 Cladding Layer for Polarization-Insensitive Silica Waveguide by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Fabrication of Waveguide-Type Add/Drop Grating Filter by Radio-Frequency Magnetron Sputtering to Insert GeO_2-SiO_2 Cladding Layers

スポンサーリンク