押山 智寛 | コニカ株式会社CI-素材開発グループ

スポンサーリンク

概要

• 押山 智寛の詳細を見る
• 同名の論文著者
• コニカ株式会社CI-素材開発グループの論文著者

関連著者

• 石井 文雄

  コニカ株式会社

• 押山 智寛

  コニカ株式会社CI-素材開発グループ

• 台場 信一

  コニカ株式会社

• 飯塚 宏之

  コニカ(株)感材技術研究所

• 石井 文雄

  コニカ(株) Ci-素材開発g

• 台場 信一

  コニカ(株)感材技術研究所

• 押山 智寛

  コニカ(株)感材技術研究所

• 台場 信一

  コニカ株式会社中央研究所

• 押山 智寛

  コニカ株式会社

• 川畑 香苗

  コニカ株式会社mg材料システム開発センター

• 鍋田 博之

  コニカ株式会社MG材料システム開発センター

もっと見る 閉じる

著作論文

• 写真用抑制剤の吸着性と絶対ハードネスの相関
• 計算機化学による高吸光係数イ***ーカプラーの分子設計
• カプラーの反応性を予測する分子軌道パラメータの検討
• DIRカプラーの研究:分子計算によるタイミング基からの現像抑制剤放出速度の検討
• 分子軌道法によるシアンカプラー発色反応のエネルギープロファイルの算出
• 1H-ピラゾロ[5,1-c]-1,2,4-トリアゾールアゾメチン色素の光退色機構の検討

スポンサーリンク