石井 文雄 | コニカ株式会社

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概要

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関連著者

• 石井 文雄

  コニカ株式会社

• 台場 信一

  コニカ株式会社

• 押山 智寛

  コニカ株式会社CI-素材開発グループ

• 飯塚 宏之

  コニカ(株)感材技術研究所

• 石井 文雄

  コニカ(株) Ci-素材開発g

• 台場 信一

  コニカ(株)感材技術研究所

• 押山 智寛

  コニカ(株)感材技術研究所

• 台場 信一

  コニカ株式会社中央研究所

• 押山 智寛

  コニカ株式会社

• 杉田 修一

  コニカ株式会社

• 鈴木 隆嗣

  コニカ株式会社

• 川畑 香苗

  コニカ株式会社mg材料システム開発センター

• 鍋田 博之

  コニカ株式会社MG材料システム開発センター

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著作論文

• 写真用抑制剤の吸着性と絶対ハードネスの相関
• 光安定性向上のために分子内水素結合を利用することを特徴としたピラゾロトアゾールマゼンタカプラーの開発
• 計算機化学による高吸光係数イ***ーカプラーの分子設計
• カプラーの反応性を予測する分子軌道パラメータの検討
• DIRカプラーの研究:分子計算によるタイミング基からの現像抑制剤放出速度の検討
• 分子軌道法によるシアンカプラー発色反応のエネルギープロファイルの算出
• 1H-ピラゾロ[5,1-c]-1,2,4-トリアゾールアゾメチン色素の光退色機構の検討

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