遠田 利之 | (株)東芝ulsi研究所
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概要
関連著者
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執行 直之
(株)東芝 ULSI研究所
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遠田 利之
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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著作論文
- 格子依存性を緩和した反転層移動度モデル
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- 埋込チャネルMOSFETのSスイングと短チャネル効果の改善 : Counter-Doped Surface-Channel MOSFET (CDSC)(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)